Суббота, 19.05.2012, 21:12

Компьютерная тех. поддержка

Меню сайта
Категории раздела
Мои статьи [58]
Новые статьи [50]
Новые статьи 2 [50]
Мои статьи 2 [50]
Актуальные статьи [50]
статьи [50]
обзоры [50]
новости [50]
последние [50]
новые [50]
свежие [50]
избранные [50]
классные [49]
специальные [51]
электроника [50]
электроника 2 [50]
электроника 3 [50]
компьютеры [50]
компьютеры 2 [46]
компьютеры 3 [49]
компьютеры 4 [50]
компьютеры 5 [54]
компьютеры 6 [44]
компьютеры 7 [45]
компьютеры 8 [51]
компьютеры 9 [50]
компьютеры 10 [50]
новости пк [51]
новости пк 2 [56]
новости пк 3 [48]
новости пк 4 [49]
новости пк 5 [50]
новости пк 6 [55]
новости пк 7 [51]
новости пк 8 [51]
железо [61]
железо 2 [50]
железо 3 [47]
железо 4 [49]
железо 5 [53]
железо 6 [56]
железо 7 [58]
железо 8 [52]
железо 9 [50]
железо 10 [52]
Наш опрос
Какой операционной системой вы пользуетесь??
Всего ответов: 183
Статистика

Онлайн всего: 1
Гостей: 1
Пользователей: 0
Форма входа
E-mail:
Пароль:
Статьи
Новое
Поиск
Спонсоры

рекомендуем

Главная » Статьи » электроника

Полевые транзисторы для ИМС РПЗУ
В интегральных микросхемах (ИМС) репрограм-ируемых постоянных запоминающих устройств ПЗУ), часто используемых в опытном производстве фровых устройств [118], в виде элементарной ячейки я хранения информации применяют полевые тран-сторы МНОП или МОП-транзисторы с плавающим твором. Аббревиатура МНОП расшифровывается металл — Н — сплав HSijN, — оксид металла — проводник. Один бит информации в РПЗУ соответс-ует состоянию одного транзистора ячейки. •, Принцип действия этих транзисторов основан на том, в сильных электрических полях электроны могут роникать в диэлектрик на глубину до 1 мкм. МНОП-структура транзистора изображена на рис. 4.13.Транзисторы структуры МНОП имеют диэлектрик из двух слоев. Первый слой толщиной менее 1 мкм — окись кремния, второй слой толщиной несколько микрон со¬стоит из нитрида кремния. Без программирования этот транзистор работает как обычный МОП-транзистор и содержит логическую еди¬ницу информации (рис. 4.14). Для программирования логического нуля на затвор кратковременно подают напряжение, величиной от 25 до 30 В. Под действием этого напряжения электроны про¬ходят слой окиси малой толщины, но не могут пройти слой нитрида кремния, в результате чего скапливаются на границе этих слоев. Поскольку напряжение подают кратковременно, электроньгЧютаются на границе слоевдиэлектриков. Оставшись, электроны создают объ-дай отрицательный заряд, который хранится" весь- §Адолго. Теоретически заряд мог бы храниться сколь цно долго, если бы не было потерь на -сопротивление аэлектрике. За счет этого заряда возникает электри-<ое поле, противодействующее полю затвора. Чтобы щировать канал в транзисторе, на затвор необходимо давать большее напряжение, чтобы преодолеть дей-яе поля объемного заряда. Это соответствует сдвигу экозатворной характеристики транзистора вправо по : напряжений. При подаче на затвор импульса запроса хлитудой в 5 В канал индуцироваться не будет, ток г>ка транзистора и ток в нагрузке отсутствуют и на ^грузке будет уровень логического нуля. Для стирания информации с транзисторной ячейки затвор подают напряжение от 25 до 30 В только от¬дельной полярности [38]. Структура МНОП-транзистора с плавающим затвором оказана на рис. 4.15.
Категория: электроника | Добавил: sergei4 (03.10.2010)
Просмотров: 197 | Рейтинг: 0.0/0
Всего комментариев: 0
Имя *:
Email:
Код *: